大連力迪供應芬蘭KxS Technologies Oy半導體濃度監測儀

大連力迪供應芬蘭(lan) KxS Technologies Oy半導體(ti) 濃度監測儀(yi) ，德國總部直接采購，近30年進口工業(ye) 品經驗,原裝產(chan) 品,支持選型，為(wei) 您提供一對一好的解決(jue) 方案：貨期穩定，快速報價(jia) ，價(jia) 格優(you) ，設有8大辦事處提供相關(guan) 售後服務。

公司簡介：

大連力迪供應芬蘭(lan) KxS Technologies Oy 半導體(ti) 濃度監測儀(yi) ，

KxS Technologies 致力於(yu) 先進、最現代的液體(ti) 濃縮技術，幫助半導體(ti) 、生物加工、食品、糖、化學品以及紙漿和造紙行業(ye) 的廣泛客戶生產(chan) 更多高質量的消費產(chan) 品。 

KxS 專(zhuan) 注於(yu) 在線濃度監測技術的開發，並不斷通過 DCM 過程折射儀(yi) 取得突破，該折射儀(yi) 設計堅固、體(ti) 積小，可確保任何液體(ti) 過程的可靠性和準確性。

主要型號：

DCM-10

芬蘭(lan) KxS Technologies Oy 半導體(ti) 濃度監測儀(yi) 產(chan) 品介紹：

大連力迪供應芬蘭(lan) KxS Technologies Oy 半導體(ti) 濃度監測儀(yi) 產(chan) 品。

在整個(ge) 晶圓廠分銷鏈中，當需要平衡半導體(ti) 化學濃度測量的成本、速度和準確性時，原位折射率已成為(wei) 行業(ye) 標準。KxS 半導體(ti) DCM-10 晶圓廠化學監測器經過設計，可以：

定義(yi) 進料清潔化學品濃度和原始 CMP 漿料密度。

實現並確保在銅、鎢和層間電介質平坦化應用中使用的膠體(ti) 二氧化矽型 CMP 漿料中精確的 H2O2 濃度和 DI 水稀釋度。

將濃度測量結果與(yu) 緩衝(chong) 氧化物蝕刻（BOE）等工藝中的晶圓蝕刻速率（ER）關(guan) 聯起來。

優(you) 化濕法帶鋼旋壓工具中蝕刻後殘留物消除劑（如 EKC265™）的使用壽命。

我們(men) 的半導體(ti) 晶圓廠化學監測器適用於(yu) 多種應用，包括：

SC-1 和 SC-2 的化學混合物校驗和

使用 NH3 水混合物進行硬掩模蝕刻

使用 50% KOH 進行矽濕法蝕刻

使用 H2SO4:HNO3:H3PO4 混合物蝕刻鈦

使用 HF:HNO3 混合溶液蝕刻背麵聚合物

使用各種混合物進行 CMP 後清潔

我們(men) 的技術能夠監測各種關(guan) 鍵的半導體(ti) 化學品，包括但不限於(yu) ：

過氧化氫（H2O2）

氫氧化銨（NH3水）

稀氫氟酸（HF）

磷酸（H3PO4）

鹽酸（HCl）

氫氧化鈉（NaOH）

硫酸（H2SO4）

N-甲基吡咯烷酮（NMP）

四甲基氫氧化銨 (TMAH)

異丙醇 (IPA)

氫氧化鉀（KOH）

硝酸（HNO3）

聚乙二醇 (PEG)

檸檬酸（C6H8O7）

乙酸（CH3COOH）

大連力迪供應芬蘭(lan) KxS Technologies Oy 半導體(ti) 濃度監測儀(yi) 優(you) 勢特點

Ø 所有測量功能都集成在傳(chuan) 感器中——無需發射器

Ø 監測器適用於(yu) 多種應用

Ø 測量輸出選項包括模擬和數字通信協議

Ø 可以通過傳(chuan) 感器的數字端口連接各種尺寸的外部顯示器。使用帶有網絡瀏覽器的計算機、平板電腦或手機訪問傳(chuan) 感器的診斷和設置。

大連力迪供應芬蘭(lan) KxS Technologies Oy 半導體(ti) 濃度監測儀(yi) 主要應用：

大連力迪供應芬蘭(lan) KxS Technologies Oy 半導體(ti) 濃度監測儀(yi) ，利用 KxS Technologies 的先進解決(jue) 方案和知識，在您的化學監測過程中體(ti) 驗精度和效率。。